真空管式炉

真空密封系统采用特种设计技术，具有操作安全、方便、真空度高，密封性好，真空保持时间长，密封采用不锈钢金属法兰及 O 型耐高温氟胶圈密封，气体经过流量计后由针型阀开关进入炉管内，阀控配有进气阀，排气、抽真空阀。减压阀，安全阀，可通多种气体、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，可充入高压气体，采用独特的密封技术，可长时间保压，安全性能好，操作方便。

加热系统：采用优质加热元件，根据客户要求的不同温度，采用优质电阻丝、硅碳棒、硅钼棒等。该炉具有温场均衡、炉体表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。 炉膛及冷却系统：炉膛全用氧化铝陶瓷纤维经独特工艺构筑而成，抗热震性强，耐腐蚀性好，不塌陷，不结晶，不掉渣，无污染，使用寿命长，保温性能好，保温时仅需40%功率。 采用高纯石英管或刚玉管作为内炉膛。可拆卸式的三面密封方式，具有良好的洁净度和真空度。

控温系统：控制系统采用微电脑全自动智能调节技术，具有 PID调节、模糊控制、自整定功能，多段程序编程，并可编制各种升温、保温、降温程序，控温精度高；集成模块可控硅控制、移相触发，控温精度可以达到±1℃ 。

显示模式：LED 数显仪表，可选配豪华型智能触摸屏仪表，实时曲线显示，也可用 U 盘导出数据，在电脑上安装查看软件。

保护系统：采用独立超温保护、超压、超流、漏电、短路等保护，自动化程度较高，各项指标达到了国际***水平   。

可选配 CVD系统：

CVD是由开启式真空管式炉、多路气体混合系统、真空系统等组成。是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的专用理想设备。主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等 可以用于控制一种到多种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制系统安装在移动架上，管式炉可以放在上面，气体控制系统的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀。结合管式炉，它可以用于CVD系统及退火炉，用来研究气体环境对材料的影响。

真空CVD管式炉可选配质量流量控制器跟浮子流量计。

质量流量控制器：

工作电压：185~245V/50Hz

**输出功率：18W

控制范围：

控制器1：1~199 SCCM  

控制器2：1~499 SCCM  

工作温度：5~45 ℃

**压力：3x106 Pa

准确度：±1% FS  

控制阀及管线连接等

浮子流量计：流量速率在25to250ml/min  

传统的气路法兰连接，需要利用 4~6个紧固螺栓将法兰与端盖连接在一起。在安装法兰的时候往往不能一个人进行操作。而且在实验时的取放物料过程中还要重复以上的动作，每一次都要松紧紧固螺栓，非常繁琐。如果紧固螺栓在紧固时用力不当还有可能造成漏气现象，甚至将炉管损坏。但我厂生产的真空 CVD 管式炉在气路总成部分属于国内领先地位。它具有全不锈钢快速链接法兰，能够简单的拆卸挡板装取实验样本，为操作者节省了大量的时间。法兰和炉管只在**次安装的时候固定牢固，以后只要拆装卡箍和挡板就可实行装取实验样本了，避免了反复拆装法兰对炉管造成损害和密封不严达不到密封环境的要求。这是国内其他同类产品所不具备的条件。   期待与您进一步沟通，为您提供实验室电炉工作系统专业的解决方案

可根据客户的工艺要求定制旋转式管式炉

旋转管式炉主要用于锂离子电池等正负极材料，无强酸碱性粉体材料，颗粒状物料的实验室煅烧及干燥，用户可根据所要烧制材料的选择在真空下或气氛保护下进行烧制。

旋转管式炉主要特点：   设备的控制系统国际领先，具有安全可靠、操作简单、控温精度高（专家 PID 控制）、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可通气氛抽真空、可倾斜角度、炉管可360℃旋转等特点